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鍍銅制程
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鍍銅制程
填孔電鍍(VFP)
下載質(zhì)檢報告
詳細信息
應用:
VFP系列是我司新一代填孔藥水,其中VFP08適用于不溶性陽(yáng)極電鍍填孔,VFP08S適用于可溶性陽(yáng)極電鍍填孔,均可用于孔徑2~6mil的盲孔填孔,且可達到較薄面銅,適應精細線(xiàn)路的生產(chǎn),VFP21適用于盲孔填孔和通孔同時(shí)電鍍。
優(yōu)勢介紹:
填孔時(shí)間短,可控制在40~50分鐘;
銅孔厚度可控制在13~16μm;
良好的信賴(lài)性能力;
可兼容閃鍍后與PTH后直接填孔工藝。
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